Президент и исполнительный директор Elpida Юкио Сакамото (фото Getty Images).
Японской компании Elpida первой в отрасли удалось применить технологию HKMG при производстве микросхем памяти типа DDR2 Mobile RAM (LPDDR2) для мобильных устройств.
Методика HKMG основана на использовании диэлектриков с высокой диэлектрической проницаемостью (high-k) и транзисторов с металлическими затворами (metal gate). Эта технология применяется при изготовлении процессоров, но при выпуске микросхем памяти задействовать её до сих пор мешали определённые ограничения. Компания Elpida смогла их преодолеть.
Сообщается, что благодаря методике HKMG удалось уменьшить токи утечки и в 1,7 раза повысить быстродействие транзисторов микросхем памяти. Кроме того, значительно снизилось энергопотребление в режиме простоя.
В настоящее время технология HKMG задействована при производстве 40-нанометровых микрочипов DDR2 Mobile RAM ёмкостью 2 Гбит. Пробные поставки таких изделий начнутся до конца года. В перспективе Elpida рассчитывает внедрить методику HKMG при выпуске 30- и 25-нанометровой продукции.